Автор работы: Пользователь скрыл имя, 16 Ноября 2011 в 22:26, курсовая работа
Поскольку структура и физико-химические свойства покрытий в значительной степени определяются особенностями начальных стадий электрокристаллизации, т.е. образованием кристаллических зародышей и их последующим ростом вплоть до формирования сплошного осадка, возникает необходимость более детального исследования данных процессов и их моделирование.
Цель работы: исследовать механизм образования и роста осадков в гальваностатических условиях.
Введение………………………………………………………………………...3
1.Формирование тонкодисперсных металлических
осадков в гальваностатических условиях………………………………………….5
2. Гальваностатическое осаждение…………………………………………..10
3. Гальваностатический режим……………………………………………….13
4. Экспериментальная часть………………………………………………….15
Заключение…………………………………………………………………….18
Список использованной литературы………………………………………...19
5. Феттер К. Электрохимическая кинетика. – М. :Химия, 1967. – 856 с.
6. Поветкин В.В., Ковенский И.М. Структура электролитических покрытий. М.: Металлургия. 1989. 130с.
7. Ковенский
И.М., Поветкин В.В. Методы