Формирование тонкодисперсных металлических осадков в гальваностатических условиях

Поскольку структура и физико-химические свойства покрытий в значительной степени определяются особенностями начальных стадий электрокристаллизации, т.е. образованием кристаллических зародышей и их последующим ростом вплоть до формирования сплошного осадка, возникает необходимость более детального исследования данных процессов и их моделирование.
Цель работы: исследовать механизм образования и роста осадков в гальваностатических условиях.

Введение………………………………………………………………………...3
1.Формирование тонкодисперсных металлических
осадков в гальваностатических условиях………………………………………….5
2. Гальваностатическое осаждение…………………………………………..10
3. Гальваностатический режим……………………………………………….13
4. Экспериментальная часть………………………………………………….15
Заключение…………………………………………………………………….18
Список использованной литературы………………………………………...19