Фотохимические реакции. Радиационно-химические реакции
Курсовая работа, 29 Марта 2011, автор: пользователь скрыл имя
Описание работы
Фотохимия изучает химические процессы, идущие при воздействии на вещество света или же сопровождающиеся свечением. Фотохимические реакции взникают под влиянием видимого света, инфракрасных и ультрафиолетовых лучей. Данный раздел физической химии имеет большое прикладное значение, так как фотохимические реакции часто встречаются в окружающем нас мире.
Содержание работы
ВВЕДЕНИЕ…………………………………………………..……………. 4
1.РАСЧЁТНЫЕ МЕТОДЫ ПОСТРОЕНИЯ КРИВЫХ ЛИКВИДУСА …………………………………………………………. 5
1.Методы расчета …………………………………………………….. 5
2.Расчет кривых ликвидуса по данным температур и теплот плавления веществ в системе «Ga – Zn»………………………..…. 9
3.Сравнительный анализ экспериментальных и рассчитанных диаграмм………………………………………………………….….. 12
2.ФОТОХИМИЧЕСКИЕ РЕАКЦИИ………………………………….…13
1.Общие сведения о фотохимических реакциях……….……………13
2.Фотосинтез……………………………………………….………….21
3.Люминесценция……………………………………………….…….23
3.Радиационная химия…………….……………………………26
1.Общие сведения……………………………………………………...26
2.Три стадии радиационных процессов ……………………………27
3.Дозиметрия ионизирующих излучений…………………………..28
4.Радиационная стойкость некоторых материалов……………….. 29
ЗАКЛЮЧЕНИЕ ……………………………………………………………32
СПИСОК ИСПОЛЬЗУЕМЫХ ИСТОЧНИКОВ…………………………33
Файлы: 1 файл
ФИЗ ХИМ.docx
— 139.59 Кб (Скачать файл)СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ…………………………………………………..…
- РАСЧЁТНЫЕ МЕТОДЫ ПОСТРОЕНИЯ КРИВЫХ ЛИКВИДУСА …………………………………………………………. 5
- Методы расчета …………………………………………………….. 5
- Расчет кривых ликвидуса по данным температур и теплот плавления веществ в системе «Ga – Zn»………………………..…. 9
- Сравнительный
анализ экспериментальных и рассчитанных
диаграмм…………………………………………………………
.….. 12 - ФОТОХИМИЧЕСКИЕ РЕАКЦИИ………………………………….…13
- Общие сведения о фотохимических реакциях……….……………13
- Фотосинтез……………………………………………….…
……….21 - Люминесценция……………………………………………
….…….23 - Радиационная химия…………….……………………………26
- Общие сведения……………………………………………………..
.26 - Три стадии радиационных процессов ……………………………27
- Дозиметрия ионизирующих излучений…………………………..28
- Радиационная стойкость некоторых материалов……………….. 29
ЗАКЛЮЧЕНИЕ ……………………………………………………………32
СПИСОК
ИСПОЛЬЗУЕМЫХ ИСТОЧНИКОВ…………………………33
ВВЕДЕНИЕ
Задачей курсовой работы является расчет кривых ликвидуса по данным температур и теплот плавления веществ в системе «Ga - Zn» методом Шредара – Ле-Шателье и методом Эпстейна – Хоуленда, и по полученным данным построить диаграмму состояния двухкомпонентной системы.
Диаграммы состояния позволяют решать технологические задачи, связанные с производством стекла, керамики и технологии вяжущих материалов.
Фотохимия
изучает химические процессы, идущие
при воздействии на вещество света
или же сопровождающиеся свечением.
Фотохимические реакции взникают под
влиянием видимого света, инфракрасных
и ультрафиолетовых лучей. Данный раздел
физической химии имеет большое прикладное
значение, так как фотохимические реакции
часто встречаются в окружающем нас мире.
1 РАСЧЕТНЫЕ МЕТОДЫ ПОСТРОЕНИЯ КРИВЫХ ЛИКВИДУСА
- Методы расчета
Диаграммы состояния позволяют решать технологические задачи, связанные с производством стекла, керамики и технологии вяжущих материалов, например оценивать плавкость систем, устанавливать температурные интервалы кристаллизации, составы эвтектик, планировать фазовый состав материала и т. д. Экспериментальные данные для построения диаграмм состояния получают с помощью динамического метода кривых нагревания и охлаждения либо статистического метода (метода закалки). Поскольку в ряде случаев экспериментальные данные по системам отсутствуют, а диаграммы состояния не построены, прибегают к расчетным методам.
Относительно
простым расчетным методом
1)Расчет кривых ликвидуса по уравнению Шредера-Ле-Шателье.
В
основу расчета кривых ликвидуса
двухкомпонентных систем положено уравнение
Шредера-Ле-Шателье:
T= (1.1)
где Т — температура ликвидуса, К;
— температур плавления i-го компонента, К;
R
— универсальная газовая
энтропия плавления i-го
молярная доля i-го компонента ().
Для
исследуемых компонентов (например,
A и В), если известны величины теплот
плавления , уравнение Шредера - Ле-Шателье
будет иметь вид
или
(1.2)
где и — температуры плавления компонентов А и В, K;
и — теплоты плавления компонентов А и В, кДж/(мольК);
— молярная доля компонентов А и В;
и — температуры ликвидуса соответственно при добавлении к компоненту А компонента В и наоборот.
По уравнению (1.2) строятся диаграммы плавкости двухкомпонентных систем, близкие к диаграммам состояния, построенным на основании экспериментальных данных.
2)Расчет кривых ликвидуса по уравнению Эпстейна - Хоуленда.
При отсутствии значений используется допущение Эпстейна - Хоуленда, выражающее зависимость между энтропией плавления соединения и числом атомов в молекуле:
берется со знаком плюс. Подставив выражение (1.3) в формулу (1.2), получим уравнение для расчета бинарных систем:
(1.4)
где и — число атомов в молекулярной формуле компонентов А и В соответственно.
Вычислив для заданных значений , можно рассчитать ориентировочные значения .
3)Расчет по методу С. А. Суворова.
Приближенный расчет
Исходными данными для расчета являются температуры плавления чистых компонентов А и В, число атомов в молекулярной формуле компонентов А и В и сумма числа атомов N, равная сумме nА и .
Достаточно надежные данные по составу эвтектики можно получить, используя для расчетов следующие формулы:
1) при и nА < (например, в системе MgO−Mg):
где
2) при и nА > (например, Ni):
(1.6)
3) при nА = в системе из простых оксидов (например,MgO−CaO):
(1.7)
4) при nА = в системе из более сложных соединений (например, Mg
(1.8)
Для ориентировочных расчетов температуры эвтектики можно использовать уравнение
,
где К — отношение молярных концентраций компонентов системы в эвтектике, т.е. К =.С большим приближением температуру плавления эвтектики можно вычислить по формуле .
Вычислив
и подставив эти значения в уравнения
(1.2), можно рассчитать значения
По
полученным данным для рассчитывается
температура ликвидуса для различных
значений . После расчета данные сводятся
в таблицу и оформляются графически.[1]
1.2 Расчет кривых ликвидуса по данным температур и теплот плавления веществ в системе «Ga – Zn»
Исходные данные:
;
;
- Расчёт кривых ликвидуса по уравнению Шрёдера – Ле-Шателье, данные приведены в таблице 1.1:
Таблица 1.1 – Расчётные данные
| 0.1 | 0.2 | 0.3 | 0.4 | 0.5 | 0.6 | 0.7 | 0.8 | 0.9 | 1.0 | |
| 148.48 | 175.39 | 196.18 | 214.20 | 230.63 | 246 | 260 | 275.06 | 289.02 | 302.76 | |
| 240.89 | 299.74 | 349.71 | 396.62 | 442.68 | 489.09 | 536.67 | 586.04 | 637.80 | 692.52 |
Диаграмма, построенная по расчётным данным, приведена на рисунке 1.1.
Рисунок
1.1 - Диаграмма состояния системы «Ga –
Zn»
Тэвт.=291 К
(Zn 19%, Ga 81%)
2)Расчет кривых ликвидуса по уравнению Эпстейна — Хоуленда, данные приведены в таблице 1.2:
Таблица 1.2
| 0.1 | 0.2 | 0.3 | 0.4 | 0.5 | 0.6 | 0.7 | 0.8 | 0.9 | 1.0 | |
| 70.39 | 140.14 | 137.59 | 157.65 | 179.11 | 200.46 | 222.57 | 248.11 | 275.18 | 302.7 | |
| 161.05 | 266.36 | 314.79 | 360.69 | 409.78 | 458.63 | 509.21 | 567.65 | 629.57 | 692.53 |
Диаграмма, построенная по расчётным данным, приведена на рисунке 1.2.
Рисунок
1.2 - Диаграмма состояния системы «Ga –
Zn»
Тэвт.=266 К
(Zn 19%, Ga 81%)
- Сравнительный анализ экспериментальных и рассчитаных диаграмм
На рисунке 1.3 представлена диаграмма состояния «Ga – Zn», построенная на основе обобщения данных термического анализа и измерения электросопротивления сплавов.
Рисунок 1.3 – Диаграмма состояния «Ga – Zn»,взятая из справочника
На диаграмме, построенной по методу Шредера – Ле-Шателье получили температуру плавления эвтектики равную 291 К и состав (Zn 19%, Ga 81%). На диаграмме, построенной по методу Эпстейна — Хоуленда получили температуру плавления эвтектики равную 266 К и состав (Zn 19%, Ga 81%).