Физико-химические основы смачивания
Реферат, 11 Марта 2011, автор: пользователь скрыл имя
Описание работы
Целью этой работы является рассмотрение физико-химических основ смачивания.
Файлы: 1 файл
Реферат.docx
— 253.89 Кб (Скачать файл)При ψ = 100%, как и в случае системы "парафин—ДМСО", θ возрастает с течением времени (кривая 1). Причиной возрастания θ может являться увеличение объема капли вследствие поглощения каплей паров воды, что следует из изменения параметров капли (увеличения объема капли при неизменной ширине ее основания).
3.5 РАСЧЕТ ПОВЕРХНОСТНОЙ ЭНЕРГИИ И ЕЕ СОСТАВЛЯЮЩИХ
Для расчета величин поверхностной энергии [12] были использованы значения краевых углов θ, полученные с учетом испарения, растекания капли, а также поглощения каплей паров воды из окружающей среды. Учет вышеуказанных процессов осуществляли путем экстраполяции кинетических кривых в точку при τ= 0 с. При этом полагалось, что полученное значение 9 при т = 0 с достаточным приближением можно считать соответствующим равновесному краевому углу.
Для гидрофобной поверхности парафина в начальный момент времени наблюдается резкое уменьшение значений краевых углов смачивания водой с увеличением влажности среды и практическая неизменность величины θ при использовании ДМСО (табл. 1). Для гидрофильной поверхности ПЭТФ изменение влажности среды оказывает значительное влияние на величину θ, как при использовании воды, так и ДМСО. По данным, имеющимся в литературе, для системы вода/парафин θ изменяется в пределах 104—109° [10], по нашим результатам при ψ=0% краевой угол смачивания парафина водой составляет 105°.
Таблица 2. Значения поверхностной энергии (γ) и ее составляющих (дисперсионной γd и полярной γр) парафина и ПЭТФ в зависимости от влажности окружающей среды
| Образец |
| |||
|
25 | 100 | ||
| ||||
| Парафин |
|
20.2(6)* | 19.1(8) | 19.4(3) |
|
19.5(6) | 17,1(7) | 17.5(3) | |
|
0.8(1) | 2.0(3) | 19(1) | |
| ПЭТФ |
|
42.0(5) | 40(1) | 38.5(4) |
|
26.5(3) | 29.7(8) | 31.6(3) | |
|
15.5(4) | 10.1(8) | 6.9(3) | |
* Величина в скобках представляет собой погрешность последней значащей цифры θ0 при доверительной вероятности Р = 95%.
Таблица 1. Значения краевых углов смачивания 6 водой и ДМСО поверхностей парафина и ПЭТФ в зависимости от влажности окружающей среды при т = 0 с
| Образец |
| |||||
|
| |||||
| ||||||
|
25 | 100 | 0 | 25 | 100 | |
| Парафин ПЭТФ | 105.2(4)* 64.4(3) | 100.9(4) 71.3(9) | 101.2(2) 76.3(3) | 71.6(5) 24.4(4) | 71.9(6) 26.6(5) | 71.5(2) 29.4(3) |
* Величина
в скобках представляет собой
погрешность последней
Анализ полученных данных выявил, что для исследованных объектов изменение влажности окружающей среды в большей мере сказывается на величине полярной составляющей и в меньшей степени — на полной поверхностной энергии и ее дисперсионной составляющей (табл. 2). Для гидрофобной поверхности парафина значение полярной составляющей увеличивается в два раза при изменении влажности среды от 0% до 25%. При этом значения γр при влажности 25% и 100% практически совпадают, что не исключает присутствия конденсата влаги на поверхности парафина уже при ψ=25%. Антибатное уменьшение дисперсионной составляющей приводит (в пределах погрешности эксперимента) к нивелированию влияния влажности среды на величину полной поверхностной энергии.
Для гидрофильной поверхности ПЭТФ характер зависимости полярной и дисперсионных составляющих поверхностной энергии от влажности среды противоположен таковому для парафина. Наблюдается резкое уменьшение полярной и более слабое увеличение дисперсионной составляющей с увеличением влажности среды. И как следствие имеется уменьшение общей поверхностной энергии. Для ПЭТФ уменьшение γр значительно и при изменении ψ от 0% до 100% составляет более 8 мДж/м2. Причиной этого, как уже говорилось ранее, может быть изменение структуры поверхностного слоя полимерной пленки за счет конформационных изменений участков цепи. Для общей поверхностной энергии с увеличением влажности среды имеется тенденция к уменьшению ее значения.
3.6 Выводы
Таким образом, показано, что существует зависимость величины θ от влажности окружающей среды. Для гидрофильной поверхности ПЭТФ при использовании в качестве рабочей жидкости, как воды, так и ДМСО, эта зависимость носит симбатный характер, что свидетельствует о кажущемся уменьшении полярности поверхности ПЭТФ с увеличением влажности. Для гидрофобной поверхности парафина использование воды в качестве смачивающей жидкости приводит к антибатной зависимости θ от влажности окружающей среды. Для системы "парафин/ДМСО" зависимость θ от влажности окружающей среды не выявлена.
Установлено, что повышение влажности среды приводит к появлению следующих артефактов: увеличение объема капли ДМСО (что сопровождается увеличением θ); растекание капли воды по поверхности образца (приводит к уменьшению θ). Выявлено, что указанные артефакты отсутствуют при нулевой влажности.
При расчете величин θ учет испарения, растекания капли, а также поглощения каплей паров воды из окружающей среды рекомендуем осуществлять путем экстраполяции кинетических кривых в точку при τ = 0с. При этом полагаем, что полученное значение θ с достаточным приближением можно считать соответствующим равновесному краевому углу.
Изменение влажности окружающей среды в основном сказывается на величинах полярной и дисперсионной составляющих поверхностной энергии, и в меньшей мере — на суммарной поверхностной энергии. Увеличение полярной составляющей с увеличением влажности в случае парафина, по всей вероятности, связано с наличием конденсата влаги на поверхности. Уменьшение полярной составляющей ПЭТФ с увеличением влажности можно объяснить проникновением адсорбционной воды в поверхностный слой полимерной пленки.
Работа поддержана Междисциплинарным проектом Президиума УрО РАН "Наноразмерные поверхностные структуры и их связь с механическими, химическими и физическими свойствами материалов" (2009-2011 п:).
3.7 Литература
- Иванов А.В., Сумм БД. // Вестник Московского ун-та. Сер. 2. Химия. 2004. Т. 45. № 2. С. 139.
- Гильман А.Б., Драчев А.И., Венгерская Л.Э. и др. // Химия высоких энергий. 2003. Т. 37. № 6. С. 475.
- Барабанов В.П., Осипов О.Л., Санников С.Г. и др. // Химия и компьютерное моделирование. Бутлеров- ские сообщения. 2002. № 6. С. 47.
- Ляхович А.М.,Дорфман A.M., Повстугар В.И. // Известия АН. Сер. физ. 2002. № 9. С. J 054.
- Шашки на О.Р., Богданова С.А., Барабанов В.П. и др. // Структура и динамика молекулярных систем. 2003. Вып. 10. Ч. 3. С. 61.
- Емельяненко A.M. // Физикохимия поверхности и защита материалов. 2008. Т. 44. № 5. С. 453.
7 Безуглый Б.А., Тарасов OA., Федорец А.А. // Коллоид. журн. 2001. № 6. С. 735.
- Дерягин Б.В., Чураев Н.В. Смачивающие пленки. М.: Наука, 1984. С. 67.
- Whalen J.W., Lai K.-Y. // J. Colloid Interface Sci. 1977. V. 59. № 3. P. 483.
- Сумм Б.В., Горюнов Ю.В. Физико-химические основы смачивания и растекания. ML: Химия, 1976. С. 81.
- Рабинович В.А., Хавин З.Я. Краткий химический справочник. JI.: Химия, 1978. С. 146.
- Поверхностные явления и поверхностно-активные вещества: Справочник / Под ред. Абрамзона А.А., Щукина Е.Д. JI.: Химия, 1984.
- Fowkes F.M. // J. Colloid Interface Sci. 1968. V. 28. № 3. P. 493.
- Lieng-Huang Lee // Adhesion Sci. Technol. 1993. V. 7. № 6. P. 583.
- Повстугар В.И., ШаковАА., Михайлова С.С. и др. // Журн. аналит. химии. 1998. Т. 53. № 8. С. 795.
- Beamson G., Briggs D. High Resolution XPS of Organic Polymers. The Scienta ESCA300 Database. Chichester, New York, Brisbane, Toronto, Singapore: John WUey&Sons, 1992. C. 277.
- Анализ поверхности методами Оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии / Под ред. Бриггса Д., Сиха М.П. М.: Мир, 1987.600 с.
- Ляхович A.M., Дорфман A.M., Муравьев А.Е., Широ- боков М.А. // Поверхность. Рентгеновские, син- хротронные и нейтронные исследования. 2004. № 5. С. 94.
- EverhartD.S., ReilleyC.N. //Surf. Inter. AnaL 1981. V. 3. № 3. P. 126.
- Повстугар В.И., Кодолов В.И., Михайлова С.С. Строение и свойства поверхности полимерных материалов. М.: Химия, 1988.
- Липатов Ю.С. Межфазные явления в полимерах. Киев: Наукова думка, 1980. С. 87.
- Пугачевич П.П., Бегляров Э.М., Лавыгин НА. Поверхностные явления в полимерах. М.: Химия, 1982. С. 121.
- Тарасевич Ю.И. // Коллоид, журн. 2007. Т. 69. Ne 2. С. 235.
- Мельникова Н.Б., Иоффе И.Д. // Химия растительного сырья. 2002. № 2. С. 93.
- Мельникова Н.Б., Игнатов В.И., Должикова В.Д. и др. // Вестник Московского ун-та. Сер. 2. Химия. 1998. Т. 39. №6. С. 413
4. Список литературы.
- Гельфман М. и др. «Коллоидная химия» 2004 год.
- Пасынский А.Г. «Коллоидная химия» 1953 год.
- Фридхсберг Д.А. «Курс коллоидной химии» 1984год
- Щукин Е.Д. «Коллоидная химия» 2004 год.
- Сумм Б.Д. «Основы коллоидной химии» 2007 год.
- Сумм Б. Д., Горюнов Ю. В. «Физико-химические основы смачивания и растекания». М., «Химия», 1976.