Ионная имплантация
Доклад, 23 Марта 2015, автор: пользователь скрыл имя
Описание работы
Ионная имплантация - это процесс, в котором почти любой элемент может быть внедрен в приповерхностную область любого твердого тела - мишени, помещенной в вакуумную камеру, посредством пучка высокоскоростных ионов с энергией до нескольких мегаэлектронвольт. Имплантируемые ионы внедряются в материал мишени на глубину от 0,01 до 1 мкм, формируя в ней особое структурно-фазовое состояние.