Ионная имплантация

Автор работы: Пользователь скрыл имя, 23 Марта 2015 в 18:07, доклад

Описание работы

Ионная имплантация - это процесс, в котором почти любой элемент может быть внедрен в приповерхностную область любого твердого тела - мишени, помещенной в вакуумную камеру, посредством пучка высокоскоростных ионов с энергией до нескольких мегаэлектронвольт. Имплантируемые ионы внедряются в материал мишени на глубину от 0,01 до 1 мкм, формируя в ней особое структурно-фазовое состояние.

Файлы: 1 файл